عملية 800 نانومتر

تُعد عملية 800 نانومتر (عملية 800 نانومتر ) مستوى من تكنولوجيا معالجة أشباه الموصلات التي تم الوصول إليها في الفترة الزمنية 1987-1990، من قبل شركات مثل إنتل ، و ATI Technologies ، و IBM . ^{[ 1 ]}

تشير عملية 800 نانومتر إلى أصغر حجم يمكن إنتاجه بشكل موثوق. وكانت أصغر الترانزستورات وعناصر الدوائر الأخرى على رقاقة مصنوعة بهذه العملية يبلغ عرضها حوالي 800 نانومتر.

• تم تصنيع وحدة المعالجة المركزية i486DX بسرعة 50 ميجاهرتز التي تم إطلاقها في عام 1991 باستخدام هذه العملية. ^{[ 2 ]}
• يستخدم كل من معالج Intel486 DX2 بتردد 25/50 و 33/66 ميجاهرتز هذه العملية. ^{[ 3 ]}
• إصدار مبكر من معالج Intel486 SX2 يستخدم هذه العملية. ^{[ 4 ]}
• تستخدم شركة إنتل تقنية معالجة ETOX-III (EPROM Tunnel Oxide) لوحدات ذاكرة الفلاش هذه . ^{[ 5 ] [ 6 ]}
• يستخدم إصدار Intel486 SL بجهد 3.3 فولت وتردد 25 ميجاهرتز عملية CHMOS V ثلاثية الطبقات هذه . ^{[ 7 ]}
• تم إطلاق مشروع microSPARC I في عام 1992
• تم إطلاق أول معالجات Intel P5 Pentium بسرعة 60  ميجاهرتز و 66  ميجاهرتز في عام 1993 باستخدام تقنية BiCMOS . ^{[ 8 ]}